光刻膠是微電子技術(shù)中微細(xì)圖形加工的關(guān)鍵材料之一，特別是近年來(lái)大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的發(fā)展，更是大大促進(jìn)了光刻膠的研究開(kāi)發(fā)和應(yīng)用。那么光刻膠存儲(chǔ)是怎么樣的呢？

　　光刻膠（Photoresist）又稱(chēng)光致抗蝕劑，是指通過(guò)紫外光、電子束、離子束、X射線(xiàn)等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹(shù)脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對(duì)光敏感的混合液體。在光刻工藝過(guò)程中，用作抗腐蝕涂層材料。半導(dǎo)體材料在表面加工時(shí)，若采用適當(dāng)?shù)挠羞x擇性的光刻膠，可在表面上得到所需的圖像。光刻膠按其形成的圖像分類(lèi)有正性、負(fù)性?xún)纱箢?lèi)。在光刻膠工藝過(guò)程中，涂層曝光、顯影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下來(lái)，該涂層材料為正性光刻膠。如果曝光部分被保留下來(lái)，而未曝光被溶解，該涂層材料為負(fù)性光刻膠。按曝光光源和輻射源的不同，又分為紫外光刻膠（包括紫外正、負(fù)性光刻膠）、深紫外光刻膠、X-射線(xiàn)膠、電子束膠、離子束膠等。光刻膠主要應(yīng)用于顯示面板、集成電路和半導(dǎo)體分立器件等細(xì)微圖形加工作業(yè)。

　　光刻膠對(duì)光敏感，在光照或高溫條件下其性能會(huì)發(fā)生變化。光刻膠在儲(chǔ)存過(guò)程中會(huì)老化，因此通常保存在防光的棕色玻璃試劑瓶中（部分電子束膠由于對(duì)紫外波段不感光，有可能直接使用白色塑料瓶包裝），冷藏保存，并且紫外光刻膠只能在黃光（λ>500 nm）下進(jìn)行處理。通常一款光刻膠的失效日期和建議的存儲(chǔ)溫度會(huì)標(biāo)注產(chǎn)品標(biāo)簽上。如果保持在這些溫度下，未開(kāi)封的光刻膠將穩(wěn)定到有效期（通常是生產(chǎn)后的2年，視產(chǎn)品不同略有不同）。通常光刻膠銷(xiāo)售時(shí)會(huì)有一個(gè)承諾有效日期，這個(gè)日期往往會(huì)小于瓶示質(zhì)保期。需要區(qū)分。

　　溫度：對(duì)于絕大多數(shù)紫外光刻膠而言，通常建議的保存條件是5-10℃下保存（除制造商要求的特殊保存溫度外）。如果未打開(kāi)的瓶子在低于佳溫度的條件下（例如，在5–8°C的溫度下與建議的10–18°C的溫度相比）存儲(chǔ)，則可以使一些光刻膠，在超過(guò)其有效期限外還可以保持光刻膠的特性并使用。

　　如果頻繁打開(kāi)光刻膠試劑瓶會(huì)導(dǎo)致溶劑蒸發(fā)，光刻膠會(huì)增稠并因此產(chǎn)生較厚的膜。對(duì)于膜厚為1.4μm的光刻膠，僅損失1％的溶劑就已經(jīng)導(dǎo)致4％的膜厚，因此帶來(lái)的影響是需要更高的曝光劑量。所以建議按照實(shí)際使用的量進(jìn)行購(gòu)買(mǎi)相應(yīng)包裝規(guī)格的光刻膠。

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